结合多年的经验及不断的研发。金纬挤出公司隆重推出TBJ600系列狭缝式涂布头，它是一种精密涂布技术，具有涂布速度快、涂膜均匀性好、涂层厚度均匀可控等显著优点。狭缝式涂布是接触式涂布，没有背压橡胶辊。因此由于背压辊加压产生的一些潜在不利因素就被消除了。

狭缝涂布技术 

狭缝涂布相对于辊涂和其它传统的涂布方式而言是一种更高效和更好控制的涂布方式。

主要技术参数

狭缝涂布技术具备下列特点：

1) 可以将很薄的涂层涂到很薄的材料上。由于无背压辊，在涂布面没有“胶印”、皱褶等缺陷。能涂布1~100μ的厚度；10 ~100gsm（湿涂量）；线速度：大约300mpm；用于光学膜涂布，挤出涂布的涂布速度在30m/min左右是比较合适的。

2) 能涂布不连续模式。由于没有背压辊，料膜的边缘部也可涂上胶，而不用担心胶液涂到背压辊上而影响涂布。

3) 能从事大面积一次涂部 , 不会产生边缘厚度不同造成的污渍现象。

4) 清洗拆卸容易。

5) 适用宽广的黏度：500~5,000 cps。

 

应用案例

1 电子领域：遮光膜，0.05 micron涂层厚度；耐刮擦热ITO导电膜；绝缘与多层导电线路板；LCD背光源膜组；新型平面照明；透明导电树脂层；存储磁带及存储材料；触摸屏的硬质保护膜等

2 图像材料领域：数字出版打印层；菲林胶片；自动化标签等；

3 医用材料：自粘胶带、带有涂层的医用材料，如试验材料等；

4 光学领域：各种光学膜，如反射膜，增光膜等；各种玻璃用隔热膜等

5 电池行业：锂电池用材料

6 工业自动化领域：各种复合用胶带；薄的化学反应涂层；其他改变表面性能的涂覆材料。如太阳能电池背板，耐摩擦材料，特氟龙材料等。

 

 

涂布采用的热熔胶是一门绿色环保型的涂布包装技术。热熔胶，顾名思义是一种受热后成为熔融状态，经涂布而将各种材料粘合在一起的胶。热熔胶和其他粘合剂相比有如下特点：100%固体组成，不含溶剂和水的成分；具有热可塑性，即可以反复受热熔化和降温凝固，此过程可逆，热熔胶的化学物理性质不会因此而改变；热熔胶必须在受热成为熔融状态下才能涂布；热熔胶经冷却凝固而产生粘合力。

热熔胶自从问世以来，由于其粘接强度大，固化速度快等优点，被广泛应用于食品包装、书本装订、一次性卫生用品行业、家具行业、标签行业等领域。随着平面显示器尤其是液晶显示器(LCD)工业的飞速发展,每一个液晶显示器的面板都包括了如下部分:

彩色过滤器、偏光片、背光单元和IC驱动。这些部件的很多部分是通过不同的涂布方法来生产的。例如,光学薄膜防反射、防眩光和硬涂层保护薄膜。

 

不同光学膜产品不同涂布方式的选择

 

1、具有微结构光学膜产品的涂布方式

（1）棱镜膜又称增亮膜（BEF），涂布特点是棱镜膜涂布厚度为：基材：PET薄膜 38～250μm，涂布方式为辊涂，最好选用三辊涂布。

（2）扩散膜（包括上扩散和下扩散膜），扩散膜涂布厚度通常在10~20um ，技术规范给出的厚度误差为±5%，减去基材厚度误差的1%后，还剩下4%，厚度误差小（<2um），一般采用刮刀辊涂布，涂布厚度调节范围大，适应涂布厚度10~30um，涂料粘度20~100s的各类胶水的涂布。计量辊涂布有线辊和网纹辊涂布，适应涂布厚度在10um左右，粘度低于20s的各类胶水的涂布。最好选用计量辊涂布和狭缝涂布方式。

2、做平面涂布的光学膜产品的涂布方式

硬化膜类：LCD抗反射膜AR，LR（抗炫AG），IMD手机外壳表面抗刮和耐磨层。涂布特点：涂布量小，均匀。硬涂层的厚度在0.5-50μm之间的厚度是正常的，在1-20μm和2-10μm之间是比较合适的，但最好是在3到7μm之间。涂布可选用：微凹版、狭缝涂布、逗号刮刀等，最好的涂布方式是为了对胶水的适应性广，同时配备两种涂布头，选用微凹版和狭缝涂布。

涂布机设计工艺流程：

1、双工位PET光学膜基材放卷→自动换卷裁切→表面电晕处理→纠偏→牵引及张力分隔→微凹版涂布头（涂胶量小，粘度低时使用）→狭缝涂布头（涂胶量大及粘度高时使用）→真空吸附辊牵引→21M热风干燥→UV固化→纠偏→与保护膜复合→喷码→收卷→            保护膜放卷→纠偏

2、在硬化层涂布完成后再在背面涂布硅胶→与离型膜复合

涂布形式：微凹版涂布（MICRO GRAVURE）+ 狭缝涂布（SLOT DIE）